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等離子表面處理儀

更(geng)新時(shi)間:2023-05-25

瀏覽(lan)次數:3353

簡要描述:

供應YZD08-5C等離(li)(li)子(zi)(zi)表面(mian)處理儀,等離(li)(li)子(zi)(zi)表面(mian)處理儀系列(lie)產品:C系列(lie)、D系列(lie)等離(li)(li)子(zi)(zi)清洗機在科(ke)(ke)學研究各方面(mian)已經(jing)取得了(le)廣泛的運用,涉及光(guang)學、光(guang)電(dian)(dian)子(zi)(zi)學、電(dian)(dian)子(zi)(zi)學、材(cai)料(liao)科(ke)(ke)學、生(sheng)命(ming)科(ke)(ke)學、高分子(zi)(zi)科(ke)(ke)學、生(sheng)物(wu)醫學、微觀流體學等領域(yu),主要用于以下實(shi)驗:材(cai)料(liao)清潔和活化(hua)、灰化(hua)表面(mian)有(you)機層 有(you)機物(wu)去除(chu)、鍵(jian)合、改變親水性(xing)/疏水性(xing) 、金屬還原(yuan)、表面(mian)刻蝕(shi)、材(cai)料(liao)老(lao)化(hua)實(shi)驗、去膠(jiao)、等離(li)(li)子(zi)(zi)涂鍍聚(ju)合等各方面(mian)。

品牌其他品牌價格區間面議
樣品腔尺寸150*255cm控制方式按鍵控制
功率200/300W氣路兩路
樣品腔材質不銹鋼樣品腔容積5升L
射頻頻率40KHZGhz產地類別國產
應用領域醫療衛生,生物產業,能源,電子,綜合艙體材質304不銹鋼

  

序號(hao)

品名

型號(hao)

數量

品牌

生產廠家

1

等(deng)離子表(biao)面(mian)處(chu)理儀(yi)

YZD08-5C

1

賽奧特(SAT)

賽奧特(北(bei)京)科技有限公司



技術指標

序號

項目名稱

詳細參數

1

主(zhu)要應(ying)用

1.表(biao)面清潔    2.表(biao)面活化(hua)    3.鍵合  ;4.去膠  5.金(jin)屬還原  6.簡單刻蝕  7.去除表(biao)面有機物  8.疏水(shui)實驗(yan)   9.鍍膜前處理(li)等

 

 

 

2

 

 

 

主要特(te)點

1.實時(shi)檢測(ce)和(he)顯示真空度,真空度準確使(shi)得機(ji)器在智能控制下有了可靠的依據

2.自動模式下(xia),真空啟動值可(ke)以自由設定,(范圍:20—80帕),這樣就為外加氣體提供(gong)了可(ke)靠的(de)輝光啟動環境,使(shi)得輝光保持100%純(chun)度,有力的(de)保證了實驗效果的(de)準確性(xing)和可(ke)靠性(xing).

3.艙體(ti)、管路、閥體(ti)全部為不(bu)銹鋼(gang)材料,耐(nai)用(yong)防低腐蝕

4.采用電容式(shi) Plasma激發,實驗效果穩定(ding),均勻可靠

5.采用金屬按鍵+LED屏顯示控(kong)制,手動(dong),自動(dong)兩種模式任意切(qie)換

6.程序化(hua)設(she)計,預先編輯好程序,儀器自動完成實(shi)驗

7.無(wu)需任(ren)何耗(hao)材,使用(yong)成(cheng)本低(di),無(wu)需特(te)殊(shu)進行維護,在日(ri)常使用(yong)中保持儀器清潔即可,密閉真空環境下完成(cheng)實驗避免二(er)次污染(ran)

 

 

 

3

 

 

 

技術規(gui)格(ge)

艙體尺寸: 255X150(直徑)mm  

頻率(lv):40KHz    頻率(lv)偏移量<0.2KHz    電源:220V/50Hz

射頻功率:300W,10到300W無(wu)極可調,精度:1瓦

時間設定:1秒到99分59秒

氣(qi)路設置(zhi):三氣(qi)路(兩路進氣(qi),一路放(fang)空(kong)),氣(qi)體穩定時間(jian):1分(fen)鐘

外形尺(chi)寸:552X590X295mm   整機重(zhong)量:23Kg

4

基本配置

等離(li)子表面處理儀主機 + 真(zhen)空(kong)系統(真(zhen)空(kong)泵 油(you)霧過濾器  真(zhen)空(kong)管(guan)  法蘭) + 外加氣體軟管(guan)   樣品托盤 + 說(shuo)明書(shu) + 電源線 + 合格(ge)證

 

 

 


維護
 
  1、確保設備周圍無障礙物,空氣流通良好。
 
  2、定期清理設備外部,避免灰塵和雜質進入設備內部。
 
  3、檢查并清理氣體箱、泵站等部件,保持良好的工作狀態。
 
  4、定期更換等離子體燈管和其他易損件,確保設備的穩定運行。
 
  5、檢查并更換設備中的濾網,避免雜質進入等離子體反應室內。
 
  6、定期檢查設備電源線路,確保設備的安全性和穩定性。
 
  7、遵(zun)守操作規程,避免設(she)備被過度使(shi)(shi)用(yong)(yong)和使(shi)(shi)用(yong)(yong)不當導致的問題。

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